ASML 首席执行官克里斯托夫·富凯近日表示，尽管面临初创公司挑战及地缘政治压力，其公司在极紫外光刻（EUV）领域的垄断地位短期内难以被撼动。作为全球唯一能制造先进芯片核心设备的企业，ASML 每年投入 45 亿欧元研发，其光刻机售价高达 2 亿至 4 亿美元，支撑着英伟达、微软等科技巨头的 AI 基础设施。 面对 AI 爆发带来的芯片需求激增，ASML 确认未来数年全球芯片供应将持续紧张，生产环节已成为主要瓶颈。关于台积电等客户担忧新机型价格过高的问题，富凯解释道，虽然最新的高数值孔径（high-NA）机型初期成本更高，但能显著降低单片晶圆制造成本，从长远看具备经济性。他回顾称，2016 年的低数值孔径机型也曾价格昂贵，但随后被市场广泛接受。 针对外界关注的竞争威胁，富凯态度坚决。他指出，虽然有初创公司声称能研发替代设备，但光刻技术需兼顾产量、速度、精度与成本，ASML 历经数十年积累，拥有庞大供应链协同优势，竞争对手从零起步难度极大。此外，关于中国通过逆向工程获取 EUV 技术的传言，富凯予以否认，强调 EUV 设备从未销往中国，且公司内部实施了严格的技术与人员隔离，中国团队无法接触核心机密。 在出口管制方面，富凯支持“保持技术代差”的策略，认为向特定地区销售落后一两代的产品，既能维持商业合作，又能确保核心技术优势。他强调，ASML 的核心护城河在于长达数十年的技术积累与复杂系统工程能力，这并非短期内能够复制。目前，公司正积极与政府沟通，寻求在安全合规与商业利益间的最佳平衡点。