NVIDIA Blackwell和CUDA-X加速半导体制造与设计，台积电、楷登电子等巨头纷纷采用

台积电、楷登电子（Cadence）、科磊（KLA）、西门子和新思科技（Synopsys）等半导体行业巨头正在通过采用英伟达的CUDA-X和Blackwell平台，加速先进芯片制造的设计和制造流程。英伟达的Blackwell GPU、Grace CPU、高速NVLink织网和开关以及领域特定的CUDA-X库如cuDSS和cuLitho，大幅提升了计算光刻和设备模拟的速度与精度。 台积电的杰夫·吴表示：“我们与英伟达的合作代表了半导体工艺模拟的重大进步。CUDA-X库和Grace Blackwell平台的计算加速能力将加快工艺开发的速度，能够更快速地预测和纠正复杂制造过程中的问题，从而降低生产成本。” 英伟达的cuLitho和Blackwell平台将光刻速度提高了25倍。GPU加速使台积电等领先光刻供应商和半导体制造商能在生产前迅速发现和修正光刻问题。 楷登电子近期推出了基于Blackwell平台的Millennium M2000平台，为电子设计自动化（EDA）市场提供了一个专为该领域优化的高性能计算解决方案。该平台不仅支持大规模芯片设计、3D IC和子系统实现及验证，还能满足AI模型训练和智能推断所需的高负载需求。楷登电子还宣布推出用于硅片、系统和药物设计的Millennium M2000 AI超级计算机，进一步推动了这一领域的创新。 西门子则利用CUDA-X库和Grace Blackwell平台显著加速其Calibre平台的各项关键功能，包括纳米级光学邻近校正、全面的物理验证、制造设计分析、可靠性验证等。西门子EDA首席执行官Mike Ellow表示：“在我们的Calibre平台上使用CUDA-X和Grace Blackwell，不仅能大幅提升处理速度，还能保持高精度，这对于日益复杂的芯片节点尤为重要。” 新思科技也在其EDA工具中采用了CUDA-X库和Blackwell架构，涵盖PrimeSim、Proteus、S-Litho、Sentaurus Device和QuantumATK等多种产品。这些工具在英伟达B200平台上的性能测试结果显示，Sentaurus Device、QuantumATK和S-Litho分别实现了12倍、15倍和20倍的性能提升。新思科技高级副总裁Sanjay Bali指出：“通过集成CUDA-X库和Blackwell架构，我们已经取得了突破性的速度提升，重新定义了EDA如何促进半导体制造业的创新。” 半导体制造设备制造商科磊与英伟达合作超过十年，致力于优化基于GPU的高性能计算解决方案，推动其物理学AI的发展。随着AI驱动的设计复杂性增加、产品周期缩短、晶圆价值提升和先进封装需求增长，过程控制在半导体制造中的重要性不断上升。科磊的领先检测和量测系统通过运行复杂的AI算法捕捉并处理图像，能够以超高的速度发现最关键的半导体缺陷。科磊计划评估英伟达RTX PRO 6000 Blackwell服务器版，以进一步加速推理工作负载，助力半导体芯片制造过程。 业内专家认为，英伟达的这些平台和技术不仅提升了半导体设计和制造的效率，还重新定义了EDA领域的基础设施。未来，这些技术将使得半导体行业能够更快地交付新一代高性能芯片。此外，英伟达在COMPUTEX台北国际计算机展的GTC台北大会上详细介绍了最新的AI进展，大会将于5月21日至22日举行。